最新提示☆ ◇300786 国林科技 更新日期：2025-09-18◇ 通达信沪深京F10
★本栏包括【1.最新提示】【2.互动问答】【3.最新公告】【4.最新报道】
【5.最新异动】【6.大宗交易】【7.融资融券】【8.风险提示】
【1.最新提示】
【最新提醒】
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│●最新主要指标 │ 2025-06-30│ 2025-03-31│ 2024-12-31│ 2024-09-30│
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│每股收益(元) │ -0.0500│ -0.0400│ -0.2700│ -0.1900│
│每股净资产(元) │ 6.0758│ 6.1656│ 6.2971│ 6.3761│
│加权净资产收益率(%) │ -0.8900│ -0.5600│ -4.1800│ -2.9400│
│实际流通A股(万股) │ 14664.44│ 14670.14│ 14670.14│ 14670.14│
│限售流通A股(万股) │ 3737.14│ 3731.44│ 3731.44│ 3731.44│
│总股本(万股) │ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│
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│●最新公告:2025-09-15 18:35 国林科技（300786）：2025年第一次临时股东大会决议公告(详见后) │
│●最新报道:2025-08-29 01:34 图解国林科技中报：第二季度单季净利润同比增长81.52%(详见后) │
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│●财务同比:2025-06-30 营业收入(万元):25879.51 同比增(%):22.99；净利润(万元):-988.17 同比增(%):59.97 │
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│最新分红扩股: │
│●分红:2025-06-30 不分配不转增 │
│●分红:2024-12-31 不分配不转增 │
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│●股东人数:截止2025-09-10,公司股东户数19227,减少0.04% │
│●股东人数:截止2025-08-29,公司股东户数19234,减少5.83% │
│(详见股东研究-股东人数变化) │
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│●2025-09-18投资者互动:最新2条关于国林科技公司投资者互动内容 │
│(详见互动回答) │
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【主营业务】
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
【最新财报】
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│最新主要指标 │ 2025-06-30│ 2025-03-31│ 2024-12-31│ 2024-09-30│
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│每股经营现金流(元) │ -0.0520│ 0.0580│ -0.1640│ -0.1860│
│每股未分配利润(元) │ 1.5813│ 1.6018│ 1.6350│ 1.7198│
│每股资本公积(元) │ 3.5460│ 3.5460│ 3.5452│ 3.5447│
│营业收入(万元) │ 25879.51│ 11485.85│ 49303.74│ 34532.52│
│利润总额(万元) │ -1042.02│ -549.74│ -6152.33│ -4636.02│
│归属母公司净利润(万) │ -988.17│ -611.14│ -4995.89│ -3533.33│
│净利润增长率(%) │ 59.97│ -42.53│ -71.46│ -671.86│
│最新指标变动原因 │ ---│ ---│ ---│ ---│
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【近五年每股收益对比】
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│年份 │ 年度│ 三季│ 中期│ 一季│
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│2025 │ ---│ ---│ -0.0500│ -0.0400│
│2024 │ -0.2700│ -0.1900│ -0.1300│ -0.0200│
│2023 │ -0.1600│ -0.0200│ -0.0400│ 0.0100│
│2022 │ 0.1000│ 0.0700│ 0.0500│ 0.0400│
│2021 │ 0.8400│ 0.7200│ 0.4100│ 0.1300│
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【2.互动问答】
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│09-18 │问：芯片光刻制造过程中的多重曝光需要清洗次数增加，对清洗洁净度有更高要求，请问公司的半导体臭氧设备能│
│ │满足多重曝光工艺的适配需求吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。 │
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│09-18 │问：多重曝光，意味着需要多次沉积、光刻、清洗，对晶圆沉积、光刻胶、（硬）掩膜板以及清洗的需求都会大幅│
│ │增加。例如：自对准四重曝光的前提是完成四层沉积。请问公司产品能否满足多重曝光（N+2、N+3）工艺对应的多│
│ │次沉积和清洗的技术需求 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：光刻工艺中，光刻机以及光刻掩膜板表面因人员操作或环境沉降 ，会积累微生物，需定期消毒以避免交叉污 │
│ │染。请问公司臭氧水杀菌系统能否用于光刻相关设备的杀菌清洁 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧水具有高氧化性，同时兼具清洁效率和环保特性，能够满足各类场合中臭氧杀菌消│
│ │毒的需求。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：公司在cmp工艺中的技术设备应用 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污│
│ │染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产│
│ │品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、│
│ │二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度│
│ │检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：目前国内销售的公司的乙醛酸主要应用哪些方面售价多少钱一吨 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。乙醛酸目前广泛应用于香料、医药、农药、食品、清漆原料、染料、塑料添加剂等有机│
│ │合成中间体，也可用于生产口服青霉素、香兰素、乙基香兰素、扁桃酸和尿囊素等产品。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：公司在第三代半导体碳化硅衬底氧化方面有哪些技术产品 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污│
│ │染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产│
│ │品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、│
│ │二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度│
│ │检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：国林健康家庭用品为啥不在抖音直播带货 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司将认真考虑您的建议，拓展不同渠道的市场销售方式。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：公司电子级的乙醛酸公司认证怎么样了公司的乙醛酸纯度在pcb和半导体行业能满足99.99%吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司所生产的乙醛酸产品不含乙二醛、氯离子等有害物质，产品纯度高、杂质含量低，│
│ │目前主要应用于化妆品、香兰素、医药、螯合肥等多个领域；公司生产的乙醛酸一水化合物合格品浓度≥98%，优 │
│ │级品浓度≥ 98.5%，公司可对产品进一步提纯以满足不同客户需求。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：公司参与半导体年会效果如何公司产品是否运用于新凯来 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。本次展会除了展示公司主打产品臭氧气体发生器、臭氧输送系统和臭氧水发生器之外，│
│ │还展示了氨水发生器、二氧化碳水发生器等机能水设备以及臭氧尾气分解器、臭氧尾水分解器等配套产品，各类产│
│ │品都受到了客户的广泛关注。公司正稳步推进，不断拓展相关行业的客户群体，具体客户名称不便透露，敬请谅解│
│ │。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：公司的晶体乙醛酸国内报价多少 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。乙醛酸价格随市场供需变化、原材料采购成本、客户订单量等情况产生波动，公司密切│
│ │关注市场形势和政策变化，及时调整销售策略，稳定产品市场供应。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：万象矿业认为设备存在质量缺陷，于2021年12月向香港高等法院提起诉讼，索赔4600万美元（含损失、利息及│
│ │法律费用），这个案件如果败诉，公司会不会破产 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司与老挝万象矿业的诉讼事宜目前尚未开庭审理，公司已委托香港律师团队积极准备│
│ │相关诉讼材料，以维护全体股东及中小投资者的切身利益。后续诉讼进展情况，公司将严格按照证监会及深交所的│
│ │要求，及时履行信息披露义务，敬请关注公司相关公告。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：公司目前在手半导体设备订单情况如何 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。具体经营情况请您关注公司定期报告，如达到披露标准，公司将及时履行信息披露义务│
│ │。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：目前贵司的400mg半导体臭氧设备和150ppm臭氧水设备，从技术性能理论上，分别最多可以满足多少纳米的芯 │
│ │片制程3nm还是5nm │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司半导体专用清洗设备可满足多种级别纳米制程的半导体设备需求。感谢您的关注。│
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│09-12 │问：作为今年刚进来的中小股东，俺认为公司市值得50亿，严重低估，公司领导如何看 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。感谢你的对公司的信任，公司将持续聚焦核心业务，积极拓展市场，提高收入规模，提│
│ │升盈利能力，努力实现企业价值最大化，以回报投资者。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：乙醛酸销售价格、成本和利润有改进吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司生产经营情况请关注公司定期报告，公司将持续聚焦核心业务，积极拓展市场，提│
│ │高收入规模，提升盈利能力，努力实现企业价值最大化，以回报投资者。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：半导体订单何时大批量放量 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。子公司国林半导体所生产的系列产品已交付多家客户进行产品验证，目前部分型号产品│
│ │处于样机验证阶段，部分型号产品已通过客户验证并取得采购订单。公司将积极跟进、争取相关业务机会，具体经│
│ │营情况请您关注公司定期报告。如达到披露标准，公司将及时履行信息披露义务。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：目前国内半导体臭氧设备，美国mks是否处于半断供状态现在占比较大的国外品牌是日本住友吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。在中美贸易摩擦和关税政策的背景下，MKS在中国市场的供应和竞争力确实受到一定影 │
│ │响，这为国产替代提供了机遇；日本住友是市场上重要的国外供应商之一。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：海底数据中心（UDC）是将服务器安放在海底的压力容器中，通过海水的流动和低温环境进行自然冷却。这与 │
│ │公司的深海压力容器有技术上的关联吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司当前未参与海底数据中心核心装备相关项目。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：海底数据中心的核心装备是压力容器外壳，请问贵司目前在深海领域的压力容器外壳能否满足海底数据中心的│
│ │要求 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司当前未参与海底数据中心核心装备相关项目。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：据公开资料显示，先进存储芯片制备需要用到臭氧预处理。请问公司半导体臭氧设备是否适配于氧化层制备DR│
│ │AM动态随机存取存储器的电容介质层预处理 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污│
│ │染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：目前国际最先进的高纯度臭氧发生器，浓度稳定性达±0.5%，适配2nm以下制程。请问公司相同设备能否达到 │
│ │此性能 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司半导体专用清洗设备可满足多种级别纳米制程的半导体设备需求。感谢您的关注。│
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│09-12 │问：公司2025年半年报第23页：公司近年来持续跟踪海洋科学领域的科研需求，挖掘自身压力容器制造潜力，组织│
│ │专业团队，为国内海洋科研单位、科研院校、先进材料制造厂商承制高压模拟测试装置、深海潜标舱、海床基等试│
│ │验装备。请问公司制造的深海潜标舱、海床基属于海工装备吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。潜标舱和海床基属海洋观测试验装备。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：董秘你好，最新新型的兆声波清洗设备，依然要集成用到臭氧水设备提供高浓度臭氧水。请问是否属实 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司暂不涉及相关业务，对此不甚了解。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：公司的臭氧设备在氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)器件制造中，能否达到高质量氧化层的沉积 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司的产品可以应用于氧化性质的长膜工艺。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：公司有生产作用于碳化硅(SiC)器件氧化沉积领域的臭氧设备吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司的产品可以应用于氧化性质的长膜工艺。感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：公司与新凯来没有任何接触，对吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司正稳步推进，不断拓展相关行业的客户群体，具体客户名称不便透露，敬请谅解。│
│ │感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│09-12 │问：请问国内一线半导体清洗设备厂商、薄膜沉积设备厂商是公司的客户吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司正稳步推进，不断拓展相关行业的客户群体，具体客户名称不便透露，敬请谅解。│
│ │感谢您的关注。 │
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│09-12 │问：公司研发投入越来越少，对创新是不是不利 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。感谢您对公司的关注与支持，您的建议公司会认真考虑。 │
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│09-12 │问：国林半导体何时能够单独设立微信公众号投资者对国林半导体应该是最关心的，希望公司能够独立设置专属微│
│ │信公众号，发布国林半导体在研发、技术、业务拓展方面的日常信息。 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。感谢您对公司的关注与支持，您的建议公司会认真考虑。 │
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│09-11 │问：截止到9.10日的股东数 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。截至2025年9月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计19,227 │
│ │人。感谢您的关注。 │
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│09-11 │问：请问贵公司截止到九月十日股东人数是多少 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。截至2025年9月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计19,227 │
│ │人。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│09-11 │问：请问截止2025年9月10日，公司股东数是多少 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。截至2025年9月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计19,227 │
│ │人。感谢您的关注。 │
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│09-05 │问：公司参展第13届半导体设备展 ,是否有意向性订单 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司将积极跟进、争取相关业务机会，具体经营情况请您关注公司定期报告；如达到披│
│ │露标准，公司将及时履行信息披露义务。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│09-05 │问：公司参加13届半导体设备及材料展,是否有意向性订单 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司将积极跟进、争取相关业务机会，具体经营情况请您关注公司定期报告；如达到披│
│ │露标准，公司将及时履行信息披露义务。感谢您的关注。 │
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│09-05 │问：请问公司，电子级臭氧设备和半导体级臭氧设备的区别在哪哪个技术含量更高 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。二者没有本质区别，只是叫法不一样。感谢您的关注。 │
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│09-05 │问：公司与华润微旗下的晶圆fab厂无锡上华的业务中标额是多少呢具体提供哪些设备 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。项目的招标及中标情况以招标方指定网站公示结果为准。如达到披露标准，公司将及时│
│ │履行信息披露义务。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│09-05 │问：请公司介绍一下，由公司主持的半导体级臭氧发生器标准启动暨评审大会情况。这次标准的参加成员企业有哪│
│ │些是不是有北方华创、盛美上海、拓荆科技、华海清科、至纯科技等涵盖臭氧、薄膜、湿法清洗、CMP等装备以及 │
│ │终端fab厂、PFA关键零部件等众多知名企业 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。本次受邀参会企业包括：北方华创微电子装备有限公司、华海清科股份有限公司、拓荆│
│ │创益（沈阳）半导体设备有限公司、北京电控集成电路制造有限公司、上海陛通半导体能源科技股份有限公司、北│
│ │方集成电路技术创新中心、盛吉盛半导体科技（无锡）有限公司、盛美半导体设备（上海）股份有限公司、杭州星│
│ │源驰半导体有限公司、江苏亚电科技股份有限公司、上海至纯系统集成有限公司、浙江启尔机电技术有限公司、上│
│ │海正帆科技股份有限公司、天津奥尔斯曼新能源科技有限公司、山东志伟环保科技有限公司共计16家单位，涵盖臭│
│ │氧、薄膜、湿法清洗、CMP等装备以及终端fab厂、PFA关键零部件等众多知名企业。感谢您的关注。 │
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│09-05 │问：董秘您好：请问贵公司参加今年的第十三届半导体设备与核心部件及材料展吗 │
│ │
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