最新提示☆ ◇300786 国林科技 更新日期：2025-07-18◇ 通达信沪深京F10
★本栏包括【1.最新提示】【2.互动问答】【3.最新公告】【4.最新报道】
【5.最新异动】【6.大宗交易】【7.融资融券】【8.风险提示】
【1.最新提示】
【最新提醒】
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│●最新主要指标 │ 2025-03-31│ 2024-12-31│ 2024-09-30│ 2024-06-30│
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│每股收益(元) │ -0.0400│ -0.2700│ -0.1900│ -0.1300│
│每股净资产(元) │ 6.1656│ 6.2971│ 6.3761│ 6.4344│
│加权净资产收益率(%) │ -0.5600│ -4.1800│ -2.9400│ -1.9700│
│实际流通A股(万股) │ 14670.14│ 14670.14│ 14670.14│ 14670.14│
│限售流通A股(万股) │ 3731.44│ 3731.44│ 3731.44│ 3731.44│
│总股本(万股) │ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│
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│●最新公告:2025-07-14 17:14 国林科技（300786）：关于取得专利证书的公告(详见后) │
│●最新报道:2025-07-07 15:17 国林科技(300786)：国林半导体公司的产品可为芯片光刻制造环节中的清洗工艺提供对应的机能水│
│设备(详见后) │
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│●财务同比:2025-03-31 营业收入(万元):11485.85 同比增(%):18.79；净利润(万元):-611.14 同比增(%):-42.53 │
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│最新分红扩股: │
│●分红:2024-12-31 不分配不转增 │
│●分红:2024-06-30 不分配不转增 │
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│●股东人数:截止2025-07-10,公司股东户数21281,减少12.69% │
│●股东人数:截止2025-06-30,公司股东户数24374,增加20.91% │
│(详见股东研究-股东人数变化) │
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│●2025-07-11投资者互动:最新12条关于国林科技公司投资者互动内容 │
│(详见互动回答) │
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【主营业务】
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
【最新财报】 ●2025中报预约披露时间:2025-08-29
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│最新主要指标 │ 2025-03-31│ 2024-12-31│ 2024-09-30│ 2024-06-30│
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│每股经营现金流(元) │ 0.0580│ -0.1640│ -0.1860│ -0.1720│
│每股未分配利润(元) │ 1.6018│ 1.6350│ 1.7198│ 1.7777│
│每股资本公积(元) │ 3.5460│ 3.5452│ 3.5447│ 3.5452│
│营业收入(万元) │ 11485.85│ 49303.74│ 34532.52│ 21042.18│
│利润总额(万元) │ -549.74│ -6152.33│ -4636.02│ -3189.15│
│归属母公司净利润(万) │ -611.14│ -4995.89│ -3533.33│ -2468.50│
│净利润增长率(%) │ -42.53│ -71.46│ -671.86│ -280.14│
│最新指标变动原因 │ ---│ ---│ ---│ ---│
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【近五年每股收益对比】
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│年份 │ 年度│ 三季│ 中期│ 一季│
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│2025 │ ---│ ---│ ---│ -0.0400│
│2024 │ -0.2700│ -0.1900│ -0.1300│ -0.0200│
│2023 │ -0.1600│ -0.0200│ -0.0400│ 0.0100│
│2022 │ 0.1000│ 0.0700│ 0.0500│ 0.0400│
│2021 │ 0.8400│ 0.7200│ 0.4100│ 0.1300│
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【2.互动问答】
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│07-11 │问：公司半导体产品到底验证怎么样了也从来没有给过正面回应是一切进展顺利，如同计划预期一样推进。还是遭│
│ │遇了阻碍 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。目前，公司的生产经营状况良好，我们也在不断地深耕半导体领域，积极拓展新的客户│
│ │资源。针对半导体领域的业务，我们将依据客户的验证进度，逐步扩大产能和销售规模。感谢您的关注。 │
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│07-11 │问：请问目前公司半导体臭氧清洗设备国内的市场空间有多少 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体相关臭氧设备主要用做半导体湿法清洗、薄膜沉积等行业辅助设备使用，公│
│ │司暂未能从行业协会、调研报告等官方渠道获悉该行业市场额度等信息。感谢您的关注。 │
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│07-11 │问：请问公司有没有设备应用于光刻机和光刻胶 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司的产品可为芯片光 刻制造环节中的清洗工艺提供对应的机能水设备， │
│ │满足工序清洗需求。感谢您的关注。 │
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│07-11 │问：请问贵公司涉及半导体设备分别有哪些可以用在哪些环节 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程，子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度│
│ │臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪│
│ │、臭氧水溶浓度检测仪等产品，详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。 │
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│07-11 │问：公司在半导体设备领域的合作客户有哪些 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。涉及客户合作等业务敏感信息，公司无法对具体情况做出回复，还望您能谅解。感谢您│
│ │的关注。 │
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│07-11 │问：公司7.10股东人数 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。截至2025年7月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计21,281 │
│ │人。感谢您的关注。 │
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│07-11 │问：公司半导体设备今年内能开始规模化生产吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司一直在持续开拓半导体领域新客户，半导体领域业务将根据客户验证情况逐步放量│
│ │。感谢您的关注。 │
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│07-11 │问：公司乙醛酸主要下游客户是制药公司吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司乙醛酸业务下游客户多为化妆品、香兰素、医药、螯合肥等行业。感谢您的关注。│
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│07-11 │问：公司非常规“技术性”暂定生产乙醛酸，是何种考虑这种长达2个月的大检修，一般化工厂产线5-10年才会有 │
│ │一次。而公司产线才运营3年，是公司产线设备质量从一开始就不过关还是因为产线一直开着，但是对应的产品卖 │
│ │不出去，为节约成本考虑，直接停产是最好的选择 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司本次停机检修主要为机器维护，以提升运转效率、节降运营成本和增强安全性，后│
│ │期会根据产品市场和资金情况，尽快恢复生产，请您关注公司临时公告。感谢您的关注。 │
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│07-11 │问：公司所处的乙醛酸、臭氧设备行业内卷严重吗据了解，乙醛酸行业竞争激烈，导致乙醛酸价格长期处于低位，│
│ │公司如何响应国家提出的反内卷政策 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司将继续努力拓宽化工品销售市场，提升产品市场竞争力。感谢您的关注。 │
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│07-11 │问：贵司子公司贺力德主要开展哪些方面的冷链物流是否参与日韩贸易的冷链物流 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。贺力德主营业务包括：低温设备、冷藏冷冻设备及其配件的生产及技术研发、技术咨询│
│ │、技术服务与技术转让，主要产品为低温冷藏、冷冻柜，目前占公司主营业务收入比重较低。感谢您的关注。 │
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│07-11 │问：公司羟基苯甘氨酸的制成方法已经取得，请问何时生产设计产能多少青岛还是新疆基地生产该化学品的应用场│
│ │景是哪些市场售价多少公司为什么要研发此化学品 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司持续关注行业发展趋势，如有相关规划，公司将严格按照有关法律法规的要求及时│
│ │履行信息披露义务，请您关注公司公告。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：第三代半导体的薄膜沉积需要用到公司的臭氧设备，请问公司在这方面有涉及吗是否已经产生了设备收入 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司目前所研发的半导体行业专用的臭氧发生器气体设备和臭氧水机设备可│
│ │应用于第三代半导体领域部分工艺环节，目前占主营业务收入比重较低。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司半导体产品毛利润是多少 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。子公司国林半导体2024年度营业收入为1,012.45万元，净利润为-1,141.81万元，因当 │
│ │前处于发展初期阶段，产品收入较低，固定资产折旧及期间费用相对较高，尚处于亏损状态。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司的高端晶体乙醛酸在国内与国际市场占有率都是名列前茅吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。2024年度公司化工业务营业收入20,339.19万元，占公司营业收入比重41.25%，营业收 │
│ │入同比持续增长。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司在核电站废水处理上的产品技术应用有吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。早年间公司为秦山核电站提供过臭氧发生器系统设备，占公司主营业务收入比重较小。│
│ │感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司子公司国林健康，针对家庭饮水等的产品在京东，淘宝，拼多多的网店我看销售很少。未来针对c端客户 │
│ │有什么规划没有给公司一些建议，公司的家庭产品推广可以找一些网红直播试试，先把品牌打出来，每个家庭对水│
│ │健康都有需求，公司如果能通过网红激情科普，带动产品销售，如果大家用的都好，这方面收入肯定不比化工差。│
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。您的建议公司已收悉，感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：目前公司在半导体设备布局的市场潜在进口替代空间有多大乙醛酸在世界范围内的市场占有预期有多大 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司在半导体领域专用的臭氧系统设备与进口设备性能指标相当，核心零部件及大部分│
│ │配件装置都是自主研发的，公司凭借臭氧行业多年的技术沉淀和经验，在研发成本方面较有优势；公司采用“臭氧│
│ │氧化顺丁烯二酸酐”工艺制取晶体乙醛酸，不含传统“乙二醛硝酸氧化法”工艺中的乙二醛、氯离子等有害物质，│
│ │生产过程环境污染少。公司将积极把握市场机遇，提升产品市场竞争力。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司是否掌握了海水消毒增氧臭氧微纳米气泡技术该技术的原理是通过特殊的设备将臭氧气体溶入水中，能够│
│ │净化海水，改善海水水质，有效增加氧气在水中的溶解度，提高水体的氧含量，从而改善水质和生态环境，在海水│
│ │养殖领域具有较高的应用价值。 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污│
│ │水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：EUV光刻技术对晶圆表面洁净度的要求是传统工艺的数十倍，臭氧设备的精密控制能力成为提高EUV光刻机整体│
│ │效能，提升芯片制造良率的关键因素。公司的半导体臭氧设备从技术上能否保证晶圆在进入EUV光刻机前达到高洁 │
│ │净度要求能否有效提升芯片光刻制造的良率 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程，子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度│
│ │臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪│
│ │、臭氧水溶浓度检测仪等产品。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司的高端晶体乙醛酸可以用于医药，制备光刻胶和电子清洗剂吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司晶体乙醛酸产品目前在医药、香料、油漆、精细化工等领域有广泛应用，可用于合│
│ │成口服青霉素、尿囊素、香兰素及乙基香兰素等产品，是一种重要的医药中间体和有机合成中间体；此外，乙醛酸│
│ │还可用于制造亲水性高分子聚合物、用作化学交联剂等等。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司在海产养殖领域有哪些技术应用 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污│
│ │水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域。公司现阶段以环保设备制造为主业，以化工产│
│ │品为重要延伸产业，半导体业务则处于市场开拓阶段。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司在军工领域主要有哪方面的产品 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司臭氧设备可应用于火箭推进剂废水处理领域，但该业务占主营业务收入比重较低。│
│ │感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司臭氧设备在海洋经济与深海科技领域的应用 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污│
│ │水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：董秘您好，据中科院半导体研究所官方微信公众号发布的研究成果，目前针对EUV（极紫外光）掩膜板的清洗 │
│ │过程中，包括颗粒去除、表面损伤控制、污染防止以及副产物清除等，都具有较大的技术挑战。目前中科院的研究│
│ │结论认为，一种有效的解决方案是采用臭氧水清洗。臭氧水能够确保有效去除EUV掩膜板的表面有机物和颗粒，而 │
│ │不会导致材料的氧化或表面损伤。请问，公司的臭氧水清洗设备能否满足EUV掩膜板的清洗精度要求 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程，子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度│
│ │臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪│
│ │、臭氧水溶浓度检测仪等产品。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：贵司回应过没有自对准多重曝光的技术，这个本身就是芯片光刻制作的核心技术，公司不涉及是正常的。但自│
│ │对准多重曝光技术需要进行多次清洗、多次沉积，从技术原理上，臭氧比其他传统湿化学品更加适合这种多次清洗│
│ │和多次沉积，传统清洗每次会残留部分杂质，多次清洗意味着残留杂质会累积，影响芯片良品率。而公司的半导体│
│ │清洗和薄膜沉积设备正好具备不残留杂质的优点。请问公司设备能否满足自对准多重曝光的对清洗、沉积的技术要│
│ │求 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：n+2和n+3工艺的核心在于多重曝光（自对准四重曝光）SAQP技术，该技术是国产芯片突破先进制程的有效路径│
│ │。随着国产芯片的良率不断提升，saqp技术已经成为7nm以下制程纯国产芯片的主导。四重曝光技术相对于单次曝 │
│ │光，会带来光刻胶的消耗量、光刻胶清洗、掩膜板清洗以及薄膜沉积次数的增加。公司的清洗设备和薄膜沉积设备│
│ │能否满足自对准四重曝光相关的多次光刻清洗和薄膜沉积需求 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司的设备在晶圆厂芯片光刻产线上，是与光刻机一起作为前后工序配套使用的吗按照目前国内走的多重曝光│
│ │路线，需要光刻一次，清洗一次。再光刻一次，清洗一次。需要多次光刻多次清洗。光刻设备、涂胶显影设备与清│
│ │洗设备需要协同合作。 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司的产品可为芯片光 刻制造环节中的清洗工艺提供对应的机能水设备， │
│ │满足工序清洗需求。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：多重曝光，意味着需要多次沉积、光刻、清洗，对晶圆沉积、光刻胶、（硬）掩膜板以及清洗的需求都会大幅│
│ │增加。例如：自对准四重曝光的前提是完成四层沉积。请问公司产品能否满足多重曝光（N+2、N+3）工艺对应的多│
│ │次沉积和清洗的技术需求 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司是目前a股上市公司中唯一一家从事光刻清洗相关设备研发制造的公司对吗目前a股从事光刻清洗相关的化│
│ │学品生产的公司较多，但研发生产光刻清洗设备的只有公司一家，这是否可以理解为公司多年在臭氧设备积累的技│
│ │术已经形成在这方面的技术门槛 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体相关臭氧设备主要用做半导体湿法清洗、薄膜沉积等行业辅助设备使用，目│
│ │前占主营业务收入比重较小，现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度│
│ │臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪│
│ │、臭氧水溶浓度检测仪等产品。感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：芯源微和盛美上海是公司的客户吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司正稳步推进，不断拓展相关行业的客户群体，具体客户名称不便透露，敬请谅解。│
│ │感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：董秘您好，公司是否和华为海思，华为昇腾合作。 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司正稳步推进，不断拓展相关行业的客户群体，具体客户名称不便透露，敬请谅解。│
│ │感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：公司和新凯来有合作吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司正稳步推进，不断拓展相关行业的客户群体，具体客户名称不便透露，敬请谅解。│
│ │感谢您的关注。 │
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│07-04 │问：请问截至2025年6月30日，公司股东数是多少 │
│ │ │
│ │
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