最新提示☆ ◇300786 国林科技 更新日期：2025-12-21◇ 通达信沪深京F10
★本栏包括【1.最新提示】【2.互动问答】【3.最新公告】【4.最新报道】
【5.最新异动】【6.大宗交易】【7.融资融券】【8.风险提示】
【1.最新提示】
【最新提醒】
┌─────────────┬──────────┬──────────┬──────────┬──────────┐
│●最新主要指标 │ 2025-09-30│ 2025-06-30│ 2025-03-31│ 2024-12-31│
├─────────────┼──────────┼──────────┼──────────┼──────────┤
│每股收益(元) │ -0.1000│ -0.0500│ -0.0400│ -0.2700│
│每股净资产(元) │ 6.0332│ 6.0758│ 6.1656│ 6.2971│
│加权净资产收益率(%) │ -1.6100│ -0.8900│ -0.5600│ -4.1800│
│实际流通A股(万股) │ 14664.44│ 14664.44│ 14670.14│ 14670.14│
│限售流通A股(万股) │ 3737.14│ 3737.14│ 3731.44│ 3731.44│
│总股本(万股) │ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│
├─────────────┴──────────┴──────────┴──────────┴──────────┤
│●最新公告:2025-12-08 16:37 国林科技（300786）：关于续聘2025年度审计机构的公告(详见后) │
│●最新报道:2025-11-13 15:19 国林科技(300786)：子公司国林半导体下游终端客户包含存储芯片制造商(详见后) │
├─────────────────────────────────────────────────────────┤
│●财务同比:2025-09-30 营业收入(万元):38610.46 同比增(%):11.81；净利润(万元):-1772.72 同比增(%):49.83 │
├─────────────────────────────────────────────────────────┤
│最新分红扩股: │
│●分红:2025-06-30 不分配不转增 │
│●分红:2024-12-31 不分配不转增 │
├─────────────────────────────────────────────────────────┤
│●股东人数:截止2025-12-10,公司股东户数23387,减少3.84% │
│●股东人数:截止2025-11-28,公司股东户数24322,减少4.78% │
│(详见股东研究-股东人数变化) │
├─────────────────────────────────────────────────────────┤
│●2025-12-16投资者互动:最新4条关于国林科技公司投资者互动内容 │
│(详见互动回答) │
├─────────────────────────────────────────────────────────┤
│●股东大会:2025-12-24召开2025年12月24日召开2次临时股东会 │
└─────────────────────────────────────────────────────────┘
【主营业务】
臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计；臭氧系统设备安装、调试、运营及维护；臭氧技术的研究、开发
与应用
【最新财报】
┌─────────────┬──────────┬──────────┬──────────┬──────────┐
│最新主要指标 │ 2025-09-30│ 2025-06-30│ 2025-03-31│ 2024-12-31│
├─────────────┼──────────┼──────────┼──────────┼──────────┤
│每股经营现金流(元) │ -0.0450│ -0.0520│ 0.0580│ -0.1640│
│每股未分配利润(元) │ 1.5386│ 1.5813│ 1.6018│ 1.6350│
│每股资本公积(元) │ 3.5460│ 3.5460│ 3.5460│ 3.5452│
│营业收入(万元) │ 38610.46│ 25879.51│ 11485.85│ 49303.74│
│利润总额(万元) │ -1991.21│ -1042.02│ -549.74│ -6152.33│
│归属母公司净利润(万) │ -1772.72│ -988.17│ -611.14│ -4995.89│
│净利润增长率(%) │ 49.83│ 59.97│ -42.53│ -71.46│
│最新指标变动原因 │ ---│ ---│ ---│ ---│
└─────────────┴──────────┴──────────┴──────────┴──────────┘
【近五年每股收益对比】
┌─────────┬───────────┬───────────┬───────────┬───────────┐
│年份 │ 年度│ 三季│ 中期│ 一季│
├─────────┼───────────┼───────────┼───────────┼───────────┤
│2025 │ ---│ -0.1000│ -0.0500│ -0.0400│
│2024 │ -0.2700│ -0.1900│ -0.1300│ -0.0200│
│2023 │ -0.1600│ -0.0200│ -0.0400│ 0.0100│
│2022 │ 0.1000│ 0.0700│ 0.0500│ 0.0400│
│2021 │ 0.8400│ 0.7200│ 0.4100│ 0.1300│
└─────────┴───────────┴───────────┴───────────┴───────────┘
【2.互动问答】
┌──────┬──────────────────────────────────────────────────┐
│12-16 │问：请问目前ald的两种路径，一种是水蒸气作为氧源，一种是臭氧作为氧源，均为与tma前驱体反应实现薄膜沉积│
│ │。目前主流传统是采取水蒸气方式。请问公司所采取的臭氧路径相较于水蒸气，有何优势 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧应用于ALD先进制程相较水蒸气优势在于：薄膜纯度更高、杂质更少，致密度与均 │
│ │匀性更佳；低温适配性强，能渗透复杂 3D 结构，且反应副产物无污染，可提升器件性能与生产效率，适配先进制│
│ │程需求。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-16 │问：公司的半导体设备是直接被存储芯片制造商购买，然后直接在存储芯片产线上使用吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司所生产的半导体专用臭氧气体设备及机能水设备等产品，主要为设备商│
│ │提供配套服务，与主机设备一同供应至终端客户。目前，该部分业务占公司主营业务收入的比重较低。感谢您的关│
│ │注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-16 │问：请问公司在存储芯片领域的业务，是存储芯片制造商直接采购贵司的产品设备用以制造生产存储芯片还是贵司│
│ │先给北方华创、盛美上海等这样的半导体设备厂商提供零部件设备，再由他们集成设备销售给存储芯片制造商使用│
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司所生产的半导体专用臭氧气体设备及机能水设备等产品，主要为设备商│
│ │提供配套服务，与主机设备一同供应至终端客户。目前，该部分业务占公司主营业务收入的比重较低。感谢您的关│
│ │注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-16 │问：原子级制造目前主流的技术为原子层刻蚀ale和原子层沉积ald，而臭氧在ale和ald中均发挥了重要作用。公司│
│ │作为国内半导体臭氧设备的领先企业，能否分别介绍一下臭氧在原子层刻蚀ale和原子层沉积ald的技术原理有何不│
│ │同 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。二者核心差异是作用相反，且均依托自限性循环：臭氧在 ALD 中作氧前驱体，与 TMA │
│ │等反应沉积单原子层氧化物薄膜；在 ALE 中作氧化剂，氧化基底表面原子后剥离，实现单原子层刻蚀。感谢您的 │
│ │关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-15 │问：北京同林科技，也是半导体臭氧服务商。其针对芯片制造中的光刻车间因使用极紫外、深紫外、紫外光以及等│
│ │离子体工艺等产生的空气中的臭氧废气消除、臭氧尾气分解研发了专门的臭氧消除净化器。请问贵司官网好像也有│
│ │臭氧消除类设备，是否也用在光刻车间生产过程中产生的空气中臭氧污染气体净化，从而保证光刻车间的空气洁净│
│ │度 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污│
│ │染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产│
│ │品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、│
│ │二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度│
│ │检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-15 │问：公司是否有参与PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等不同类型的薄膜沉积设备的相关技术产品上述 │
│ │细分种类中，哪些是公司是涉及到的 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污│
│ │染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产│
│ │品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、│
│ │二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度│
│ │检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-15 │问：公司12.10日股东数 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。截至2025年12月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计23,387│
│ │人。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-05 │问：公司能对日本在半导体优势领域的半导体设备形成国产替代吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污│
│ │染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产│
│ │品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、│
│ │二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度│
│ │检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-05 │问：公司在光刻胶清洗领域，是否对日本先进半导体设备（例如日本住友）形成国产替代 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污│
│ │染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产│
│ │品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、│
│ │二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度│
│ │检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-05 │问：公司的半导体臭氧水设备和机能水设备是否已经通过验证正式进入批量供货阶段。 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。目前，国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭 │
│ │氧水以及其他配套功能水设备现有客户已经全部验证通过，已全部量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生│
│ │器验证取得了重要突破，目前已小批量出货中。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-05 │问：公司参与了商业航天火箭推进剂废水处理吗有何技术亮点目前国内商业航天客户对公司的推进剂废水处理技术│
│ │需求情况如何 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司产品有火箭推进剂废水处理应用业绩，但其占公司主营业务收入比重较低，具体经│
│ │营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-05 │问：公司在存储芯片专用设备上的技术处于国内什么水准对比国外优势巨头，差距有多少 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污│
│ │染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产│
│ │品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、│
│ │二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度│
│ │检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-05 │问：目前公司在存储芯片专用薄膜沉积与清洗设备上取得了哪些进展 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以 │
│ │及其他配套功能水设备目前对接客户已经全部验证通过，已全部量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生器│
│ │验证取得了重要突破，目前已小批量出货中。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-05 │问：乙醛酸利用率到多少了 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司乙醛酸项目近期产能利用率维持在80%左右，产能将根据市场需求及订单情况进行 │
│ │实时调整。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-05 │问：公司臭氧产品技术是否参有助力中国航天事业发展为中国航天事业做了哪些贡献 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司产品有火箭推进剂废水处理应用业绩，但其占公司主营业务收入比重较低，具体经│
│ │营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-05 │问：乙醛酸，市场价格如何，公司毛利率多少 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。乙醛酸价格随市场供需变化、原材料采购成本、客户订单量等情况产生波动；根据公司│
│ │2025年半年度报告披露，公司乙醛酸及其副产品毛利率-0.98%，公司将继续努力拓宽化工领域产品销售市场，提升│
│ │产品市场竞争力。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-05 │问：公司薄膜沉积与清洗设备已经正式小批量投入到了存储芯片的制造过程中了吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。目前，国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭 │
│ │氧水以及其他配套功能水设备现有客户已经全部验证通过，已全部量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生│
│ │器验证取得了重要突破，目前已小批量出货中。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-01 │问：这2天网上又在传公司与万象矿业的案件已经宣判，公司输了，要赔偿巨额金额，给公司带来巨大利空。请问 │
│ │公司能否给出一个准确回应 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司与老挝万象矿业的诉讼事宜目前尚未开庭审理，如有实质性进展，公司将严格按照│
│ │证监会及深交所的要求及时履行信息披露义务，请以公司法定信息披露媒体发布信息为准。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-01 │问：公司目前半导体收入里面，来自存储芯片设备的收入占比如何 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司经营情况请关注公司在指定媒体上披露的定期报告。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-01 │问：请问公司截至11月30日的股东人数是多少，谢谢 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。截至2025年11月28日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计24,322│
│ │人。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-01 │问：您好，请问截至11月底公司的股东人数是多少谢谢！ │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。截至2025年11月28日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计24,322│
│ │人。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│12-01 │问：公司11.30日股东数是多少 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。截至2025年11月28日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计24,322│
│ │人。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│11-26 │问：公司目前已呈现出来的半导体设备系列矩阵在5nm以下芯片先进制程领域的优势体现在哪 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。基于国林科技集团在臭氧机理研究的技术优势和技术沉淀，子公司国林半导体所开发出│
│ │半导体行业专用的高浓度、高纯度、高可靠性的臭氧发生器和各品类机能水设备，可以为半导体、面板显示以及光│
│ │伏等行业提供臭氧设备。公司主要产品及应用领域请参考公司官网及定期报告。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│11-26 │问：公司在半导体臭氧设备领域里的竞争对手天津奥尔斯曼宣称其半导体臭氧设备为存储芯片定制化生产，因存储│
│ │芯片3D NAND堆叠层数从128层升级至232层，要求氧化工艺稳定性提升，需要部署臭氧浓度波动率<±0.8%的高稳定│
│ │设备。请问贵司的产品是否具备满足3d nand堆叠存储芯片的高稳定氧化臭氧设备 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体所研制臭氧发生器以及各类功能水设备可以满足应用在存储芯片领域，且浓│
│ │度稳定性高于上述指标，具体产品介绍请关注公司官网及定期报告。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│11-26 │问：公司2023年2月9日互动易回复：公司目前研制的光伏用高浓度臭氧水机主要用于生产HJT异质结类型电池板， │
│ │主要在制绒，清洗和薄膜沉积工序应用。这是公司以前的回复风格，直接诚恳。请公司按照一致性原则，就公司目│
│ │前研制的存储芯片用臭氧设备的具体技术工艺和使用场景进行介绍。谢谢！ │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体所研制臭氧发生器以及各类功能水设备可应用于存储芯片制造工艺中的清洗│
│ │与薄膜沉积环节。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│11-24 │问：公司子公司国林新材料目前产能利用率 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司乙醛酸项目近期产能利用率维持在80%左右，产能将根据市场需求及订单情况进行 │
│ │实时调整。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│11-21 │问：苏州晶拓的半导体臭氧设备的核心部件是日本住友提供的。日本住友在半导体臭氧设备的国内与国际市场都占│
│ │有绝对话语权，请问公司如何应对这样的竞争压力 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司在半导体专用臭氧设备领域始终坚持自主创新，全产业链自主研发与制造，确保技│
│ │术独立性和国产化优势。面对国际竞争，公司将持续通过技术升级、工艺优化及产品线拓展来巩固市场地位。感谢│
│ │您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│11-21 │问：公司11.20日股东数 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。截至2025年11月20日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计25,543│
│ │人。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│11-21 │问：您好，请问截至11月20日收盘公司的股东人数是多少谢谢！ │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。截至2025年11月20日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计25,543│
│ │人。感谢您的关注。 │
└──────┴──────────────────────────────────────────────────┘
【3.最新公告】
─────────┬─────────────────────────────────────────────────
2025-12-08 16:37│国林科技（300786）：关于续聘2025年度审计机构的公告
─────────┴─────────────────────────────────────────────────
青岛国林科技集团股份有限公司（以下简称“公司”）于 2025 年 12 月 8 日召开了第五届董事会第十三次会议，审议通过了《
关于续聘 2025年度审计机构的议案》，拟续聘大华会计师事务所（特殊普通合伙）（以下简称“大华所”）为公司 2025年度审计机构
，负责公司财务报告和内部控制审计工作，聘期一年。本事项尚需提交 2025年第二次临时股东会审议，现将有关事项公告如下：
一、拟聘任会计师事务所事项的情况说明
大华会计师事务所（特殊普通合伙）具有从事证券业务资格及从事上市公司审计工作的丰富经验和职业素养，具备足够的独立性、
专业胜任能力、投资者保护能力，在为公司 2024年度提供审计服务工作中，恪尽职守、遵循独立、客观、公正的职业准则，较好地完
成了公司委托的相关工作，从专业角度维护了公司股东的合法权益。
经公司董事会审计委员会审议，为保证公司年度审计工作的连续性和工作质量，公司拟续聘大华所为公司 2025年度审计机构，聘
期一年，并提请股东会授权公司管理层根据 2025年度审计的具体工作量及市场价格水平确定年度审计费用。
二、拟聘任会计师事务所的基本信息
（一）机构信息
1、基本信息
机构名称：大华会计师事务所（特殊普通合伙）
成立日期：2012 年 2 月 9 日成立（由大华会计师事务所有限公司转制为特殊普通合伙企业）
组织形式：特殊普通合伙
|