最新提示☆ ◇300786 国林科技 更新日期:2026-08-01◇ 通达信沪深京F10
★本栏包括【1.最新提示】【2.互动问答】【3.最新公告】【4.最新报道】
【5.最新异动】【6.大宗交易】【7.融资融券】【8.风险提示】
【1.最新提示】
【最新提醒】
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│●最新主要指标 │ 2026-03-31│ 2025-12-31│ 2025-09-30│ 2025-06-30│ 2025-03-31│ 2024-12-31│
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│每股收益(元) │ 0.0300│ -0.1100│ -0.1000│ -0.0500│ -0.0400│ -0.2700│
│每股净资产(元) │ 6.0772│ 6.0239│ 6.0332│ 6.0758│ 6.1656│ 6.2971│
│加权净资产收益率(%│ 0.4300│ -1.7200│ -1.6100│ -0.8900│ -0.5600│ -4.1800│
│) │ │ │ │ │ │ │
│实际流通A股(万股) │ 14639.42│ 14639.42│ 14664.44│ 14664.44│ 14670.14│ 14670.14│
│限售流通A股(万股) │ 3762.17│ 3762.17│ 3737.14│ 3737.14│ 3731.44│ 3731.44│
│总股本(万股) │ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│
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│●最新公告:2026-07-09 16:54 国林科技(300786):关于取得专利证书的公告(详见后) │
│●最新报道:2026-07-10 09:42 异动快报:国林科技(300786)7月10日9点39分触及涨停板(详见后) │
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│●财务同比:2026-03-31 营业收入(万元):13416.02 同比增(%):16.80;净利润(万元):483.08 同比增(%):179.05 │
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│最新分红扩股: │
│●分红:2025-12-31 不分配不转增 │
│●分红:2025-06-30 不分配不转增 │
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│●股东人数:截止2026-07-20,公司股东户数18512,增加12.11% │
│●股东人数:截止2026-07-10,公司股东户数16513,减少10.18% │
│(详见股东研究-股东人数变化) │
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│●2026-07-30投资者互动:最新2条关于国林科技公司投资者互动内容 │
│(详见互动回答) │
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【主营业务】
臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运营及维护,并致力于臭氧技术的研
究、开发与应用
【最新财报】 ●2026中报预约披露时间:2026-08-28
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│最新主要指标 │ 2026-03-31│ 2025-12-31│ 2025-09-30│ 2025-06-30│ 2025-03-31│ 2024-12-31│
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│每股经营现金流(元)│ 0.0600│ 0.1590│ -0.0450│ -0.0520│ 0.0580│ -0.1640│
│每股未分配利润(元)│ 1.5544│ 1.5282│ 1.5386│ 1.5813│ 1.6018│ 1.6350│
│每股资本公积(元) │ 3.5460│ 3.5460│ 3.5460│ 3.5460│ 3.5460│ 3.5452│
│营业收入(万元) │ 13416.02│ 55841.49│ 38610.46│ 25879.51│ 11485.85│ 49303.74│
│利润总额(万元) │ 639.57│ -2268.08│ -1991.21│ -1042.02│ -549.74│ -6152.33│
│归属母公司净利润( │ 483.08│ -1942.94│ -1772.72│ -988.17│ -611.14│ -4995.89│
│万) │ │ │ │ │ │ │
│净利润增长率(%) │ 179.05│ 61.11│ 49.83│ 59.97│ 0.00│ 0.00│
│最新指标变动原因 │ ---│ ---│ ---│ ---│ ---│ ---│
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【近五年每股收益对比】
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│年份 │ 年度│ 三季│ 中期│ 一季│
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│2026 │ ---│ ---│ ---│ 0.0300│
│2025 │ -0.1100│ -0.1000│ -0.0500│ -0.0400│
│2024 │ -0.2700│ -0.1900│ -0.1300│ -0.0200│
│2023 │ -0.1600│ -0.0200│ -0.0400│ 0.0100│
│2022 │ 0.1000│ 0.0700│ 0.0500│ 0.0400│
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【2.互动问答】
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│07-30 │问:公司的高纯臭氧发生器是否支持HfO、AlO、ZrO、TiO、IGZO等先进半导体氧化物的薄膜制备 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程,子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。详细产品技术信息请查阅子公司国林半│
│ │导体官方网站(https://www.guolinsemi.com/)或定期报告进行了解。感谢您对的关注。 │
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│07-30 │问:你好请问下公司和长江长鑫有沟通合作吗 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体客户名称不便透露,与具体客户的合作若达到披露标准,公司将按照相关规定披露│
│ │;具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:请问长鑫存储上市扩产对于我们半导体公司有什么好的地方,谢谢 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。子公司国林半导体的臭氧及机能水设备可应用于存储芯片领域,包括薄膜沉积、湿法清│
│ │洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程。长鑫存储作为国内存储芯片龙头企业,其上市扩产可能会带动上游半导体│
│ │设备及材料需求的增长,为国产设备供应商提供更多市场机遇。公司一直在持续开拓半导体领域相关客户,半导体│
│ │领域业务将根据客户验证情况逐步放量,详细经营情况请您关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:公司现在是否已经掌握高端乙醛酸定价话语权 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。公司乙醛酸产品价格根据市场供需情况、原材料采购成本、客户订单量等因素进行差异│
│ │化定价。公司将通过优化生产工艺、提升产能利用率、积极拓展高端乙醛酸市场等方式,依托“臭氧氧化顺丁烯二│
│ │酸酐”工艺的技术优势,努力抢占高端乙醛酸市场份额,提升产品市场竞争力。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│07-24 │问:公司产品已成功用于3d nand 232层及以上产品,那么DRAM这块技术市场开拓效果如何 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│07-24 │问:请问,电镀用乙醛酸是高品质乙醛酸吗公司在这方面技术研发进展如何 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体经营及研发情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:公司半年度业绩预告何时发布呢 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:公司能否系统性介绍一下,国林半导体的产品技术对于国内半导体产业发展的重要性 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。半导体业务为公司重点战略布局方向,目前产品验证、客户导入稳步推进,业务正稳步│
│ │放量。公司将紧抓国产替代机遇,持续拓展市场、提升业务规模,具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关│
│ │注。 │
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│07-24 │问:请问公司半导体在中国宝岛地区有收入吗谢谢! │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:请问公司的超纯水设备目前有收入吗谢谢! │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:请问公司是长鑫科技的客户吗,有多少收入谢谢! │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体客户名称不便透露,与具体客户的合作若达到披露标准,公司将按照相关规定披露│
│ │;具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:请问公司半导体国外有收入吗占比多少,谢谢! │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:请问公司电子级乙醇酸进行到哪一步了,谢谢! │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:请问长江存储是公司的半导体的客户吗有多少收入 ,谢谢! │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体客户名称不便透露,与具体客户的合作若达到披露标准,公司将按照相关规定披露│
│ │;具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:请问公司是否属于高新技术企业是否享受纳税优惠 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。公司属于高新技术企业,具体税收优惠政策请参考公司年报及半年报。感谢您的关注。│
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│07-24 │问:请问公司半导体对于韩国销售进行到哪一步了,谢谢! │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-24 │问:公司半导体设备精密零部件都是自研自产吗 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。公司基于多年在臭氧机理研究的技术优势和技术沉淀,目前所研发的为半导体行业专用│
│ │的臭氧及机能水设备核心器件均可实现自研自制,能够为半导体、光伏、面板等行业提供系统配套设备,并可以为│
│ │终端用户提供臭氧系统设备的日常维护和整机维修业务。感谢您的关注。 │
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│07-22 │问:公司给华润微旗下无锡上华晶圆封测厂提供什么臭氧设备主要用在哪个制作工艺中 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。公司通过不断探索臭氧技术在半导体行业的应用,已经研发出专用的“臭氧产生、溶解│
│ │、检测分解”相关全系列核心部件与臭氧装备,能够为半导体、光伏、面板等行业提供超纯高浓度臭氧气体设备及│
│ │机能水设备。详细产品技术信息及公司具体经营情况请查阅公司官方网站或定期报告进行了解。感谢您的关注。 │
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│07-22 │问:现在先进封装的趋势之一就是玻璃基板封装,请问公司在玻璃基板TGV清洗设备领域是否有技术与产品成果 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。关于公司的产品研发情况、详细产品技术信息请查阅公司官方网站或公司定期报告进行│
│ │了解。感谢您的关注。 │
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│07-22 │问:玻璃基板已经热度过去了,公司不必担心热点问题。就技术本身而言,公司在臭氧在玻璃基板上的技术应用的│
│ │研发成果有哪些 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。关于公司的产品研发情况、详细产品技术信息请查阅公司官方网站或公司定期报告进行│
│ │了解。感谢您的关注。 │
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│07-22 │问:国林半导体的战投融资计划进行的怎样了 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。公司如有重大投融资计划,将按相关规定及时履行信息披露义务。感谢您的关注。 │
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│07-22 │问:公司薄膜沉积设备推进情况如何了 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。子公司国林半导体自主研发并掌握了半导体行业专用臭氧发生技术、臭氧电源技术、自│
│ │动化控制技术、臭氧水混合技术、臭氧检测以及高纯介质材料加工等一系列臭氧装备的关键核心技术,可满足半导│
│ │体行业对于高浓度、高精度、高纯度、高稳定性的应用需求。目前,用于半导体湿法清洗的各类设备已完全量产获│
│ │取重复性订单,用于薄膜沉积的设备也取得了阶段性重大验证成果获取小批量订单,各系列产品已重复交付多家客│
│ │户运行中。该部分业务占主营业务收入比重较低,具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│07-22 │问:截止到7.20日股东数 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。截至2026年7月20日,公司股东人数(合并普通账户和融资融券信用账户)共计18,512 │
│ │人。感谢您的关注。 │
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│07-22 │问:请问截止2026年7月20日公司股东人数是多少谢谢 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。截至2026年7月20日,公司股东人数(合并普通账户和融资融券信用账户)共计18,512 │
│ │人。感谢您的关注。 │
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│07-14 │问:公司研发的psa制氮装置,请问制取的氮气纯度最高为多少N │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。关于公司的产品研发情况、详细产品技术信息请查阅公司官方网站或公司定期报告进行│
│ │了解。感谢您的关注。 │
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│07-14 │问:目前下游存储厂和晶圆厂高景气度,带动整个半导体产业链都在进行扩产增能。请问公司是否有着手准备半导│
│ │体设备及零部件产能扩产计划 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。公司通过不断探索臭氧技术在半导体行业的应用,已经研发出专用的“臭氧产生、溶解│
│ │、检测分解”相关全系列核心部件与臭氧装备,能够为半导体、光伏、面板等行业提供超纯高浓度臭氧气体设备及│
│ │机能水设备。未来,公司将继续紧跟行业需求,以客户需求为导向,提供臭氧应用系统解决方案,为国产化发展做│
│ │出贡献。具体经营情况请您关注公司定期报告及临时公告。感谢您的关注。 │
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│07-14 │问:众所周知,青岛有天然的地理优势,与韩国的经贸合作密切。尤其是青岛有韩国存储半导体产业链的上游企业│
│ │,公司作为青岛本地的半导体设备商,是否有利用这一天然优势,与韩国海力士、三星等半导体厂商进行技术商务│
│ │合作 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。目前公司各项业务正在稳步推进,具体经营情况请您关注公司定期报告及临时公告。感│
│ │谢您的关注。 │
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│07-14 │问:目前DRAM存储里的铟镓锌氧化物(IGZO)晶体管制造是否依赖于公司半导体臭氧设备 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程。详细产品技术信息请查阅子公司国林半导体官方网站(https://www.guolinsemi.com/)或定期报告进 │
│ │行了解。感谢您对的关注。 │
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│07-14 │问:公司有玻璃基板封装专用臭氧设备吗 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程。详细产品技术信息请查阅子公司国林半导体官方网站(https://www.guolinsemi.com/)或定期报告进 │
│ │行了解。感谢您对的关注。 │
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│07-14 │问:董秘您好!我想查询截至2026年7月10日公司最新股东人数谢谢 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。截至2026年7月10日,公司股东人数(合并普通账户和融资融券信用账户)共计16,513 │
│ │人。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│07-12 │问:截止到7.10日的股东人数 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。截至2026年7月10日,公司股东人数(合并普通账户和融资融券信用账户)共计16,513 │
│ │人。感谢您的关注。 │
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│07-10 │问:氧化物半导体是dram存储芯片重要材料,而公司的臭氧发生器是否为dram存储芯片氧化物半导体的重要制取工│
│ │艺设备 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程。详细产品技术信息请查阅子公司国林半导体官方网站(https://www.guolinsemi.com/)或定期报告进 │
│ │行了解。感谢您对的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│07-10 │问:未停止检修前,公司乙醛酸开工率多少请如实告知 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。未停止检修前,公司乙醛酸项目产能利用率维持在80%左右,产能将根据市场需求及订 │
│ │单情况进行实时调整;目前公司正在加大国内外市场的开拓力度。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│07-10 │问:半导体有没有开始放量半导体订单如何了 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。目前公司各项业务正在稳步推进,关于2026年上半年经营业绩情况,请您后续留意公司│
│ │官方披露的定期报告及相关公告。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│07-10 │问:公司的半导体设备到底在玻璃基板表面清洗及TGV工艺上有何技术应用前景公司给京东方成都8.6代玻璃基板生│
│ │产是否提供了相应的工艺设备请公司予以正面回答。 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程。详细产品技术信息请查阅子公司国林半导体官方网站(https://www.guolinsemi.com/)或定期报告进 │
│ │行了解。国林半导体产品已成功应用于京东方成都B16第8.6代AMOLED生产线项目,本次参与对于公司深耕面板行业│
│ │具有重要意义。感谢您的关注。 │
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│07-10 │问:公司生产的半导体臭氧设备及各类机能水设备是否为半导体设备的关键零部件系统具体是作为哪些半导体设备│
│ │的关键零部件 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程。详细产品技术信息请查阅子公司国林半导体官方网站(https://www.guolinsemi.com/)或定期报告进 │
│ │行了解。感谢您对的关注。 │
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│07-10 │问:公司的半导体臭氧设备和二氧化碳水设备到底在玻璃基板生产工艺上有何作用 │
│ │ │
│ │答:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程。详细产品技术信息请查阅子公司国林半导体官方网站(https://www.guolinsemi.com/)或定期报告进 │
│ │行了解。感谢您对的关注。 │
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│07-10 │
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