经营分析☆ ◇300706 阿石创 更新日期：2026-09-16◇ 通达信沪深京F10
★本栏包括【1.主营业务】【2.主营构成分析】【3.前5名客户营业收入表】【4.前5名供应商采购表】
【5.经营情况评述】
【1.主营业务】
镀膜材料、金属及合金材料的研发、生产和销售
【2.主营构成分析】
截止日期:2026-06-30
项目名 营业收入(元) 收入比例(%) 营业利润(元) 利润比例(%) 毛利率(%)
─────────────────────────────────────────────────
溅射靶材(产品) 2.88亿 36.74 5156.49万 49.95 17.92
合金及金属材料(产品) 2.44亿 31.16 1749.87万 16.95 7.17
蒸镀材料(产品) 2.43亿 31.08 3364.54万 32.59 13.82
其他(产品) 797.81万 1.02 51.50万 0.50 6.45
─────────────────────────────────────────────────
截止日期:2025-12-31
项目名 营业收入(元) 收入比例(%) 营业利润(元) 利润比例(%) 毛利率(%)
─────────────────────────────────────────────────
工程新材料(行业) 4.28亿 29.97 1414.59万 15.24 3.31
平板显示(行业) 3.79亿 26.53 4285.66万 46.16 11.32
光学光通讯(行业) 3.50亿 24.54 1305.77万 14.07 3.73
其他(行业) 2.70亿 18.96 2277.39万 24.53 8.42
─────────────────────────────────────────────────
溅射靶材(产品) 5.69亿 39.89 5090.15万 54.83 8.94
蒸镀材料(产品) 4.76亿 33.35 2564.64万 27.63 5.39
合金及金属材料(产品) 3.49亿 24.43 859.68万 9.26 2.47
其他(产品) 3321.96万 2.33 --- --- ---
─────────────────────────────────────────────────
内销(地区) 12.67亿 88.82 8136.58万 87.65 6.42
外销(地区) 1.59亿 11.18 1146.82万 12.35 7.19
─────────────────────────────────────────────────
直销(销售模式) 14.27亿 100.00 9283.40万 100.00 6.51
─────────────────────────────────────────────────
截止日期:2025-06-30
项目名 营业收入(元) 收入比例(%) 营业利润(元) 利润比例(%) 毛利率(%)
─────────────────────────────────────────────────
溅射靶材(产品) 2.87亿 42.65 1730.40万 65.75 6.03
蒸镀材料(产品) 2.13亿 31.64 678.69万 25.79 3.19
合金及金属材料(产品) 1.51亿 22.47 -319.63万 -12.15 -2.11
其他(产品) 2183.05万 3.24 542.19万 20.60 24.84
─────────────────────────────────────────────────
截止日期:2024-12-31
项目名 营业收入(元) 收入比例(%) 营业利润(元) 利润比例(%) 毛利率(%)
─────────────────────────────────────────────────
工程新材料(行业) 3.93亿 33.25 -544.42万 -7.39 -1.38
平板显示(行业) 3.55亿 30.01 3396.04万 46.11 9.56
其他(行业) 2.06亿 17.45 1839.79万 24.98 8.91
光学光通讯(行业) 2.04亿 17.28 1607.31万 21.82 7.86
贸易(行业) 2371.04万 2.00 --- --- ---
─────────────────────────────────────────────────
溅射靶材(产品) 5.71亿 48.23 6479.07万 87.97 11.36
合金及金属材料(产品) 3.05亿 25.77 -1491.79万 -20.26 -4.89
蒸镀材料(产品) 2.86亿 24.14 1680.09万 22.81 5.88
其他(产品) 2198.92万 1.86 --- --- ---
─────────────────────────────────────────────────
内销(地区) 10.20亿 86.22 6357.20万 86.32 6.23
外销(地区) 1.63亿 13.78 1007.82万 13.68 6.18
─────────────────────────────────────────────────
直销(销售模式) 11.83亿 100.00 7365.02万 100.00 6.23
─────────────────────────────────────────────────
【3.前5名客户营业收入表】
截止日期:2025-12-31
前5大客户共销售4.93亿元，占营业收入的34.54%
┌───────────────────────┬───────────┬───────────┐
│客户名称 │ 营收额(万元)│ 占比(%)│
├───────────────────────┼───────────┼───────────┤
│第一名 │ 21061.21│ 14.76│
│第二名 │ 11510.33│ 8.07│
│第三名 │ 5779.81│ 4.05│
│第四名 │ 5759.17│ 4.04│
│第五名 │ 5163.45│ 3.62│
│合计 │ 49273.96│ 34.54│
└───────────────────────┴───────────┴───────────┘
【4.前5名供应商采购表】
截止日期:2025-12-31
前5大供应商共采购5.89亿元，占总采购额的46.24%
┌───────────────────────┬───────────┬───────────┐
│供应商名称 │ 采购额(万元)│ 占比(%)│
├───────────────────────┼───────────┼───────────┤
│第一名 │ 34908.89│ 27.40│
│第二名 │ 6784.05│ 5.33│
│第三名 │ 6243.87│ 4.90│
│第四名 │ 6005.37│ 4.71│
│第五名 │ 4966.08│ 3.90│
│合计 │ 58908.25│ 46.24│
└───────────────────────┴───────────┴───────────┘
【5.经营情况评述】
截止日期:2026-06-30
●发展回顾:
一、报告期内公司从事的主要业务
1、PVD行业简介
物理气相沉积（PVD）为真空镀膜技术的一个分支路线，相较于传统的电镀、化学镀、热加工等工艺，
具有以下优点：（1）成膜均匀，硬度高，耐极端使用环境；（2）颜色多样化，可在红黄蓝三原色基础之上
任意调色；（3）材料适应范围广，尤其针对不导电材料；（4）环保无污染，无铬离子等重金属污染。
PVD技术分为蒸镀法、溅镀法和离子镀法。三种方法各有优劣势：蒸镀速度快，溅镀法均匀性好，离子
镀绕镀能力强。不同方法的选择主要取决于产品用途与应用场景。
从应用角度来看，PVD镀膜作为物体表面处理技术，应用空间非常广泛，不同应用有不同的要求，例如
半导体、平板光伏对镀膜材料织构要求较高，光学、防伪对膜层设计要求较高，电磁+传感对原材料的要求
较高。
PVD设备主要包括真空系统（主泵、罗茨泵、机械泵、维持泵）、镀膜系统（溅射源、蒸发源）、电源
、辅助系统等。国内主要以广东、成都、兰州、上海、沈阳等传统国有真空设备厂商及其延伸厂商为主，但
整体技术实力相较国际一线厂商如爱发科、应用材料(AKT）等仍有差距。
2、PVD材料简介
根据镀膜设备与使用场景的不同，可以按照外形尺寸将靶材分为蒸镀材料（蒸镀靶材）、平面靶材、旋
转靶材等，蒸镀材料（蒸镀靶材）适用于蒸发镀膜，加热方式有电阻、感应、电子束等，平面靶材、旋转靶
材适用于溅射镀膜，采用离子源轰击模式。
PVD材料的生产可以分为粉末冶金、金属熔铸两类工艺，粉末冶金（含喷涂）适用于难熔金属、化合物
、合金靶材，金属熔铸（含挤压）适用于普通易熔炼金属，常见的靶材性能指标有纯度、晶粒大小与取向（
织构）、致密度、气体含量等。
PVD材料的技术壁垒体现在设备端配合修正、工艺端制造、应用端理解等。
（1）设备端：高精度的PVD设备，对靶材的一致性要求极高，所以后续替代原厂的靶材供应商，不仅要
具备靶材制造能力，还需要设备微调能力，进而适应不同环境下的设备；
（2）工艺端：PVD材料生产的核心技术可以分为纯度控制、金属成分与粉末设计、微观结构控制、表面
设计、材料分析与评价等方面。从工艺路线来看，金属熔铸工艺难点主要在织构环节，即通过精密轧制与加
工，获得晶粒均匀、晶向一致的微观结构；粉末工艺的难点在制粉环节颗粒均匀性，烧结环节温度曲线、气
流控制、烧结气氛等；
（3）应用端：PVD优秀的环保性、成膜性、多色彩，使得PVD的应用空间愈加广泛，靶材供应商需从战
略角度拓展PVD的应用场景。
从产业链角度来看，PVD行业的上游为高纯金属或者化合物原料，下游为各类应用制造场景，如面板、
半导体等。过往PVD材料的主要市场集中在平板显示、半导体、光学、装饰等领域，近年来市场竞争激烈，
拓展更为广阔的应用场景，是PVD材料企业的战略出发点。
3、报告期内公司从事的主要业务
PVD镀膜行业发展初期，PVD镀膜材料往往与镀膜设备配套且以国外厂商为主。受益于PVD镀膜材料的发
展及应用推广及国产化替代机遇，行业企业增加技术研发投入，积极参与国际技术交流和市场竞争，现已在
国内高端PVD镀膜材料市场占有一定的市场份额，逐步改变了高端PVD镀膜材料长期依赖进口的不利局面。作
为少数国内企业已经掌握了高端PVD镀膜材料生产的关键技术，积累了较为丰富的产业经验，拥有了一定的
市场知名度，获得了下游客户的广泛认可。
二、核心竞争力分析
公司深耕PVD镀膜材料领域二十余载，始终重视研发投入与技术创新，在突破行业技术壁垒的过程中，
逐步形成了自身的核心竞争力。
1、技术研发优势
（1）领先的研发团队
公司拥有经验丰富的技术管理团队和技术支持团队。核心技术人员和研发团队深耕PVD镀膜材料领域，
具有深厚的专业知识和丰富的实践经验。公司始终重视研发团队的建设，持续加大研发投入，形成多项自主
专利技术成果，先后设立了博士后科研工作站、福建省镀膜靶材企业工程技术研究中心、福建省企业技术中
心等国家级、省级科研平台，打造了一支国内领先的技术研发团队。
（2）半导体高端靶材制备技术
公司聚焦半导体高端靶材研发，突破多项关键技术瓶颈，形成适配半导体应用的核心技术。针对半导体
靶材对原料纯度的严苛要求，研发超高纯靶材用金属原料的深度提纯工艺，有效剔除原料中的痕量杂质，确
保原料固有特性充分发挥。
结合不同器件需求，精准调控成分配比设计与晶体微观结构，定向优化靶材的电学、力学及溅射性能。
依托自主研发的轧制与退火工艺，精准控制靶材的晶粒尺寸大小与晶体取向分布，显著提升靶材的结构均一
性、致密度与溅射稳定性，解决靶材溅射过程中薄膜厚度不均、性能波动等行业难题。
围绕半导体靶材高纯度、高致密性、高均一性的要求，严控粉末粒径分布、纯度与烧结活性，为靶材无
缺陷成型提供高品质原料支撑。同时，集成真空烧结、气氛烧结等工艺，降低陶瓷靶材的孔隙率，实现靶材
高致密化，适配半导体高端应用需求。
结合半导体靶材多样化规格、多场景溅射应用及高可靠性的制备需求，优化绑定技术，严控绑定界面的
结合强度与平整度。针对半导体靶材溅射过程中的常见问题，开展靶材表面优化与功能化扩展，提升靶材表
面平整度与均匀性，以保障溅射过程中薄膜厚度均匀、成分稳定。
2、全链条自主可控精益生产优势
公司拥有专业技术研发团队，具备特种设备自主设计、定制开发及升级改造能力，可以确保生产过程的
稳定性和产品质量的一致性。
公司深耕靶材制备核心工艺技术，涵盖靶材真空熔铸生产工艺、靶材合金成分设计与实现能力、纳米粉
体制备、陶瓷靶材成型烧结等全套工艺技术，从源头保障靶材的高纯度、高密度、均匀性和稳定性。公司同
时布局高纯金属的物理、化学提纯技术，残靶回收提纯技术，持续提高资源利用率，持续优化制造成本。
公司已搭建了严格的质量控制体系和分析检测系统，依托CNAS认可实验室资质，具备超高纯金属测试，
靶材成分测试，内部缺陷和织构分析等核心技术，实现靶材全生命周期质量管控，保障性能稳定可靠。
3、CNAS认可实验室拓宽长期竞争护城河
CNAS认可实验室为研发迭代提供精准数据支撑，实现靶材全生命周期闭环质量管控，保障靶材性能的稳
定性与一致性。实验室配备GDMS、ICP-OES、XRF等国际一流检测设备，构建了全方位分析与评价体系，可实
现ppb级痕量杂质的精准检测，全面覆盖靶材纯度检测、成分分析、微观结构表征、溅射性能测试等关键环
节。
依托已获批的CNAS认可实验室，公司检测能力达到国际互认水准，是质量管控、高端市场准入的核心保
障。
4、提供一站式解决方案能力的优势
公司建立PVD薄膜实验室，掌握蒸镀与磁控溅射镀膜技术，薄膜方案设计，薄膜性能分析与评价等核心
技术；可紧密贴近下游需求，为客户提供多样化的PVD镀膜材料供应、膜系设计、工艺开发、制备技术实现
等一站式解决方案，从镀膜材料到镀膜工艺系统性的进行新产品开发和应用推广，从产品咨询、技术交流、
材料研发、检验检测及售后服务等全链条全品类的精准服务，有利于降低客户采购与验证成本，提升客户的
忠诚度和满意度。
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