拉普拉斯半导体取得磁流体密封装置及外延设备专利，可降低旋转轴及磁流腔体内磁流体的温度以保证正常运行

本文源自:市场资讯

国家知识产权局信息显示，拉普拉斯（广州）半导体科技有限公司取得一项名为“磁流体密封装置及外延设备”的专利，授权公告号CN223633515U，申请日期为2024年12月。专利摘要显示，本实用新型属于CVD设备技术领域，公开了磁流体密封装置及外延设备，磁流体密封装置包括冷却体以及磁流体组件，冷却体设置有第一进口和第一出口，第一进口和第一出口通过设置于冷却体内的第一流道连通；磁流体组件包括磁流腔体与旋转轴；冷却体的第一端穿设磁流腔体，以使第一进口与第一出口位于磁流腔体外，冷却体与磁流腔体之间形成能够承装磁流体的磁流腔，旋转轴连接于冷却体，冷却体的第二端能够连接驱动件以带动冷却体以及旋转轴转动；外延设备采用上述的磁流体密封装置，以对旋转轴以及磁流腔体内的磁流体进行换热，降低其温度，保证其正常运行。

天眼查资料显示，拉普拉斯（广州）半导体科技有限公司，成立于2021年，位于广州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，拉普拉斯（广州）半导体科技有限公司参与招投标项目2次，专利信息77条，此外企业还拥有行政许可5个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。