拉普拉斯取得淋头机构及外延设备专利，降低反应气体提前反应的概率

本文源自:市场资讯

国家知识产权局信息显示，拉普拉斯（广州）半导体科技有限公司取得一项名为“淋头机构及外延设备”的专利，授权公告号CN223633518U，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本实用新型属于CVD设备技术领域，公开了一种喷淋头机构及外延设备，喷淋头机构包括分气腔体、冷却底座以及进气管，分气腔体具有分气腔以及连通分气腔内外的出气孔；分气腔体设置于冷却底座上，冷却底座内设置有能够流通冷却流体的冷却流道，冷却流道具有的进口和出口；进气管穿设冷却底座，使进气管的出口置于分气腔内；冷却底座能够与分气腔体以及进气管换热；外延设备包括反应腔体以及上述的喷淋头机构，反应腔体设置有反应腔开口，喷淋头机构能够固定于反应腔体上，使出气孔经反应腔开口进入反应腔体内，进而通过冷却底座能够降低喷淋头的温度，尽可能降低反应气体提前反应的概率。

天眼查资料显示，拉普拉斯（广州）半导体科技有限公司，成立于2021年，位于广州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，拉普拉斯（广州）半导体科技有限公司参与招投标项目2次，专利信息77条，此外企业还拥有行政许可5个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。