天合光能取得板式ALD设备专利，降低硅片碎片对通源气体的消耗

本文源自:金融界

金融界2025年4月23日消息，国家知识产权局信息显示，天合光能股份有限公司取得一项名为“一种板式ALD设备”的专利，授权公告号CN222781687U，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，本实用新型提供一种板式ALD设备，该板式ALD设备包括：硅片分离装置、上料运输装置、工艺腔和下料运输装置，上料运输装置用于将硅片运输至硅片分离装置内进行硅片碎片的筛选，并将完整硅片运输至工艺腔内；工艺腔用于对完整硅片进行工艺操作；下料运输装置用于将进行工艺操作后的硅片运输至硅片分离装置内进行硅片碎片的筛选，硅片分离装置用于实现完整硅片和硅片碎片的分离。通过在上下料运输装置上设置硅片分离装置，实现了上料过程中和下料过程中硅片碎片与完整硅片之间的分离，极大降低了硅片碎片对通源气体的消耗，以及碎片造成下料皮带堵料的可能性，提高了ALD镀膜的批次效率。

天眼查资料显示，天合光能股份有限公司，成立于1997年，位于常州市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本217356.0162万人民币。通过天眼查大数据分析，天合光能股份有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目5000次，财产线索方面有商标信息772条，专利信息3927条，此外企业还拥有行政许可47个。