TCL中环投建深圳12英寸大硅片项目！

（来源：半导体前沿）

• 首届CMP与先进封装材料论坛将于2026年7月29–30日在苏州召开

• 来自长电科技、鼎龙股份、博来纳润、锐杰微、新安纳、中国工程物理研究院、SEMI 、江南大学、苏州大学、包头稀土研究院、SCHMID等单位的专家将作精彩报告

日前，TCL中环宣布，拟以中环领先子公司深圳中环领先半导体材料有限公司（以下简称“深圳中环领先”或“项目公司”）为主体投资建设“集成电路用半导体大硅片深圳项目”。项目总投资预计高达119.60亿元。

其中，项目建设投资115.8亿元，主要用于产线搭建、设备采购、工艺研发及厂区配套建设，同时配套铺底流动资金3.8亿元，充分保障项目建设、试产及后续量产阶段的稳定运转，完整的资金规划为项目高效落地、稳步投产筑牢坚实基础。

在资金筹措层面，项目采用自有资金与外部融资相结合的多元化模式，资金结构科学稳健。根据公司规划，自有资金出资比例不超过项目总投资额的40%，合理的融资配比有效盘活企业资金储备，降低单一资金渠道带来的运营压力。公司明确表示，本次百亿级投资不会对上市公司日常生产经营、现金流周转及原有主营业务体系造成冲击，整体项目投资风险可控、经营稳定性充足。

来源：官方媒体/网络新闻

—论坛信息—

名称：2026CMP与先进封装材料论坛

时间：2026年7月29-30日

地点：苏州

主办方：亚化咨询

—会议背景—

在半导体制造中，化学机械抛光（CMP）是实现晶圆全局平坦化、支撑先进制程持续演进的关键工艺。随着制程节点不断向纳米级推进，CMP对抛光液、抛光垫及清洗材料提出了更高的缺陷控制与选择性要求，并直接影响器件良率。

亚化咨询测算，2026年全球CMP材料（包括抛光液、抛光垫和清洗液等）市场规模约42亿美元，其中中国市场约80亿元人民币，占比持续提升。预计到2032年，中国CMP材料市场有望超过160亿元人民币，年均增速在10%左右，增量主要来自化合物半导体（尤其是SiC）和先进封装对CMP工艺和材料需求的快速增长。

与此同时，半导体产业正加速迈入“超越摩尔”阶段。2.5D/3D集成、Chiplet以及无凸点混合键合等先进封装技术，正在将CMP的应用边界从前道晶圆制造拓展至后道封装环节。面对TSV填铜平坦化、多材料界面的高选择性去除，以及原子级表面平整度控制等新挑战，CMP技术及材料体系正迎来新一轮持续创新。

在成熟制程晶圆制造CMP材料需求的稳固基础上，AI算力芯片和HBM堆叠需求的快速增长，进一步拉动先进封装相关CMP抛光液、清洗液及抛光垫的用量持续提升，正成为半导体材料领域最具增长潜力的方向之一。

当前，全球产业链加速重构，半导体关键材料自主可控已成为业界共识。无论是支撑成熟与先进制程的降本增效，还是助力先进封装技术的持续突破，CMP材料的国产替代与上下游协同都具有关键意义。

首届CMP与先进封装材料论坛将于2026年7月29–30日在苏州召开，会议由亚化咨询主办。旨在打通电子化学品与高端CMP耗材之间的研发与产业化链条，汇聚晶圆代工、封测企业及核心材料与设备供应商，共同探讨CMP技术演进趋势与应用需求，共促合作创新，布局下一代高端耗材市场机遇。

—会议报告—

—赞助方案—